镀膜材料、粉末及高纯金属
溅射靶材（金属、难熔金属及陶瓷）
熔炼锻造金属靶材、粉末冶金难熔金属靶材及绑定陶瓷靶材，用于薄膜沉积。
- 熔炼锻造
- Al、Cu、Ti、Ni 及其合金 — 4N 至 6N；均匀等轴晶粒
规格
| 铋粉 | 99.99 – 99.999%；60 – 500 mesh；不规则或球形 |
|---|---|
| 碲粉 | 99.99 – 99.999%；60 – 500 mesh |
| 锗粉 | 99.99 – 99.999%；100 – 500 mesh，纳米级可按需提供 |
| 化合物 | TeO₂、Bi₂O₃；颗粒及珠粒 |
| 包装 | 1 kg 瓶装；25 / 40 kg 桶装 |
数值为整理自供应商文件的参考信息。最终牌号、标准、状态及检测值以报价及订单文件确认为准。
关键选型参数
- 元素及纯度
- 目数 / 粒度
- 氧及杂质限值
- 包装
典型应用
- 热电及半导体材料
- 玻璃、陶瓷及颜料生产
- 催化剂及合金添加剂
