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溅射靶材(金属、难熔金属及陶瓷)

镀膜材料、粉末及高纯金属

溅射靶材(金属、难熔金属及陶瓷)

熔炼锻造金属靶材、粉末冶金难熔金属靶材及绑定陶瓷靶材,用于薄膜沉积。

  • 熔炼锻造Al、Cu、Ti、Ni 及其合金 — 4N 至 6N;均匀等轴晶粒
  • 粉末冶金W、Mo、Ta、Nb、Cr — 2N5 至 4N;平均晶粒 < 100 μm
  • 陶瓷氧化物及化合物靶材,铟绑定于无氧铜(OFHC)背板

技术数据表可按需提供。

规格

溅射靶材(金属、难熔金属及陶瓷)规格
熔炼锻造Al、Cu、Ti、Ni 及其合金 — 4N 至 6N;均匀等轴晶粒
粉末冶金W、Mo、Ta、Nb、Cr — 2N5 至 4N;平均晶粒 < 100 μm
陶瓷氧化物及化合物靶材,铟绑定于无氧铜(OFHC)背板
形状平面圆形 / 矩形、旋转靶 — 按图纸
其他元素Zr、Hf、Co 及贵金属靶材 ≥ 99.95%

数值为整理自供应商文件的参考信息。最终牌号、标准、状态及检测值以报价及订单文件确认为准。

关键选型参数

  • 成分及纯度
  • 尺寸及公差
  • 密度及晶粒尺寸
  • 背板及绑定
  • 镀膜设备接口

典型应用

  • 半导体及显示薄膜
  • 光学及装饰镀膜
  • 硬质及功能涂层

启动项目

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