镀膜材料、粉末及高纯金属
溅射靶材（金属、难熔金属及陶瓷）
熔炼锻造金属靶材、粉末冶金难熔金属靶材及绑定陶瓷靶材，用于薄膜沉积。
- 熔炼锻造
- Al、Cu、Ti、Ni 及其合金 — 4N 至 6N；均匀等轴晶粒
规格
| 金属导热膏 | GaInSn(Zn)(Ag) 体系，> 15 – 20 W/m·K |
|---|---|
| 液态金属 | > 30 – 70 W/m·K |
| 相变片 | BiSnIn，熔点 59 °C，> 30 – 50 W/m·K |
| 铟箔 | 0.05 – 1 mm, 99.99 – 99.999% |
| 铟丝 | Φ0.5 – 8 mm |
| 合规 | RoHS（供应商数据） |
数值为整理自供应商文件的参考信息。最终牌号、标准、状态及检测值以报价及订单文件确认为准。
关键选型参数
- 工作 / 相变温度
- 目标热阻
- 接触压力及表面
- 基材兼容性
- 厚度及形状
典型应用
- CPU / GPU 及功率模块散热
- 激光及光学器件
- 真空密封及低温连接
